佳能光刻机多少纳米

佳能光刻机22纳米，佳能机多光刻机是光刻制造微机电、光电、少纳二极体大规模集成电路的佳能机多关键设备。光刻机可以分钟两种，光刻分别是少纳模板和图样大小一致的contactaligner，曝光时模板紧贴芯片；第二是佳能机多类似投影机原理的stepper，获得比模板更小的光刻曝光图样。

国内目前做光刻机的少纳主要有上海微电子装备有限公司、中子科技集团公司第四十五研究所国电、佳能机多合肥芯硕半导体有限公司、光刻先腾光电科技、少纳无锡影速半导体科技。佳能机多其中，光刻上海微电子装备有限公司已经量产的少纳是90纳米，这是在中国最领先的技术。其国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备与成套工艺专项“的65nm光刻机研制，目前正在进行整机考核。对于光刻机技术来说，90纳米是一个技术台阶；45纳米是一个技术台阶；22纳米是一个技术台阶……90纳米的技术升级到65纳米不难，但是45纳米要比65纳米难多了。路要一步一步走，中国16个重大专项中的02专项提出光刻机到2020年出22纳米的。目前主流的是45纳米，而32纳米和28纳米的都需要深紫外光刻机上面改进升级。