光刻机原理 进来看看

1、光刻光刻机制作芯片的机原过程，基本和“冲印照片”一样。理进假设拍的光刻是风景，胶片上会有曝光痕迹，机原先要在暗室里显影，理进让风景在胶片上显示出来。光刻然后在红光下通过放大机，机原把胶片上的理进风景投射到相纸上，让相纸曝光。光刻再通过相纸的机原显影、定影、理进烘干得到最终的光刻照片。除了风景之外，机原“照片冲印”需要有胶片，理进有光源、放大机、相纸。

2、对光刻机来说，所谓“风景”就是设计好的集成电路图（IC），“胶片”就是一块石英板（光罩），用来记录集成电路图，“相纸”就是硅晶圆，“放大机”就相当于光刻机。

3、所不同的是，洗照片是放大，把小胶片放大到相纸上，光刻机是缩小，把电路图缩小到晶圆上。

4、在光刻机领域，有三家国际大牌：荷兰ASML（艾斯摩尔），日本Nikon（尼康），日本Canon（佳能）。但高端光刻机市场，荷兰ASML是无可争议的世界霸主，把第二名都甩得很远，因为技术难度太高、需要的投资太大，尼康、佳能已经放弃EUV光刻机的研发。