光刻机和刻蚀机有什么区别

光刻机和刻蚀机的光刻区别是光刻机把图案印上去，而刻蚀机是机和机根据印上去的图案刻蚀掉有图案或者无图的部分，留下剩余的刻蚀部分，光刻机利用的什区是光学和化学反应原理和化学以及物理刻蚀方法。

光刻机（MaskAligner)又名：掩模对准曝光机，光刻曝光系统，机和机光刻系统等，刻蚀是什区制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的光刻技术，把掩膜版上的机和机精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。曝光机就是刻蚀利用紫外线通过模版去除晶圆表面的保护膜的设备。